Elemento filtrante con revestimiento fotorresistente
Fabricado en acero inoxidable de primera calidad (SS304/SS316L), este filtro de agua plisado de alto caudal ofrece un rendimiento fiable en condiciones de alta temperatura y presión. Su elevado caudal gestiona eficazmente grandes volúmenes de agua, mientras que su construcción duradera garantiza una larga vida útil.
- Optimizado para una humectación completa con bajo volumen de retención y ventilación rápida
- Baja presión diferencial para un caudal constante
- Junta tórica para facilitar el cambio del filtro, fabricado en un entorno de sala limpia
- Compatible con la mayoría de los sistemas de dispensación de fotorresistencia más antiguos
- Caudal
- 500 GPM
- Clasificación Micron
- 5, 10, 25 μm
- Temperatura máxima
- hasta 80°C
La reducción de la anchura de las líneas de fabricación de circuitos integrados exige cada vez más un control de la contaminación en todas las fases de la fabricación de semiconductores.
La filtración de fotoresinas en el punto de uso (POU) es uno de los principales métodos utilizados para controlar la contaminación por partículas en la superficie de la oblea durante las operaciones de recubrimiento.
El impulso hacia una filtración más estricta ha introducido membranas de 0,05 µm junto a las membranas tradicionales de 0,10 µm para la dispensación de fotorresistencias.
A veces, los usuarios finales temen que una filtración más estricta pueda dañar la propia fotorresistencia, alterando el peso molecular, la viscosidad o la fotosensibilidad.
Este estudio evalúa filtros Pall Falcon® de 0,05µm y 0,10µm que dispensan fotorresistencia Microposit S1813 para reducir los defectos superficiales en la oblea.
La cromatografía de permeación en gel (GPC) sobre fotorresistencia filtrada y no filtrada no mostró cambios en el peso molecular de los componentes fotosensibles.
Las mediciones de la viscosidad y el espesor del revestimiento no mostraron ninguna pérdida de sólidos que pudiera afectar al espesor del revestimiento sobre la oblea.
La exposición de la línea G demostró la retención de la fotovelocidad, confirmando la ausencia de daños en la resina o en los componentes fotosensibles.
Los resultados demuestran que la filtración es un paso positivo hacia una menor contaminación de la superficie de la oblea sin comprometer el rendimiento de la fotorresistencia.
¿Por qué elegir Pullner Filter?
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Capacidad interna de ensayo de materiales y garantía de calidad con equipos avanzados y técnicos certificados.
- Análisis de recuento de partículas
- Pruebas de caída de presión
- Pruebas de compatibilidad de materiales
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