Elemento filtrante fotorresistente
El elemento filtrante de fotorresistencia de Pullner utiliza una membrana de nailon 6,6 hidrófilo natural con soporte y tapas finales de polietileno de alta densidad, diseñada para filtrar la fotorresistencia y el revelador en la fabricación de semiconductores y productos electrónicos. Su baja presión diferencial, rápida puesta en marcha y mínima generación de burbujas reducen los residuos fotoquímicos y mejoran el rendimiento del proceso.
- Caudal
- 500 GPM
- Clasificación Micron
- 5, 10, 25 μm
- Temperatura máxima
- hasta 80°C
| Membrana | Nylon 6,6 hidrófilo |
| Núcleo, jaula, tapas | Polietileno de alta densidad (HDPE) |
| Opciones de junta tórica | Viton, EPR |
| Clasificaciones de eliminación | 20nm, 40nm, 0,1 micras, 0,2 micras |
| Mojabilidad | Espontánea (no requiere humectación previa) |
| Certificaciones | ISO 9001 |
El nailon 6,6 hidrófilo natural se humedece espontáneamente al entrar en contacto con el fotorresistente acuoso y el revelador sin ningún paso de humectación previa, lo que elimina las burbujas de arranque que causan la falta de uniformidad del revestimiento y la pérdida de rendimiento en fotolitografía. El diseño de venteo rápido permite que cualquier gas residual escape inmediatamente, de modo que el elemento alcanza el flujo total desde el primer ciclo. Todo el hardware (núcleo, jaula, tapas, soporte y capas de drenaje) es de HDPE, lo que minimiza los extraíbles metálicos que podrían contaminar los fluidos fotoquímicos sensibles.
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