Elemento filtrante fotorresistente

El proceso comienza recubriendo un sustrato con un material orgánico sensible a la luz. A continuación, se aplica a la superficie una máscara con un patrón para bloquear la luz, de modo que sólo queden expuestas a la luz las regiones del material que no estén enmascaradas.

A continuación, se aplica a la superficie un disolvente denominado revelador. En el caso de una fotorresistencia positiva, el material fotosensible se degrada con la luz y el revelador disolverá las regiones que estuvieron expuestas a la luz, dejando una capa en el lugar donde se colocó la máscara.

En el caso de una fotorresistencia negativa, el material fotosensible es reforzado (polimerizado o reticulado) por la luz, y el revelador disolverá sólo las regiones que no fueron expuestas a la luz, dejando un revestimiento en las zonas donde no se colocó la máscara.

Los filtros fotorresistentes están especialmente diseñados para filtrar puntos de fotorresistencia y revelador. Membrana de nylon 6,6 hidrófilo natural, soporte y herrajes de HDPE, que permiten una humectabilidad espontánea.

Esto minimiza los residuos fotoquímicos al proporcionar un arranque rápido, una generación mínima de burbujas y un rendimiento constante. La estructura especial de descuento garantiza una baja caída de presión.

Una fotorresistencia (también conocida simplemente como resistencia) es un material sensible a la luz que se utiliza en varios procesos, tales como fotolitografía y fotograbado, para formar un revestimiento estampado sobre una superficie. Este proceso es crucial en la industria electrónica.