Microelectrónica Semiconductor Cartucho filtrante
El elemento filtrante fotorresistente pertenece a cartucho filtrante de pliegues diseñada específicamente para filtrar fotorresistentes y reveladores en el punto de uso. La membrana de nailon 6,6 naturalmente hidrófila, con soporte y hardware de HDPE, permite la humectabilidad espontánea. Esto minimiza los residuos fotoquímicos al proporcionar un arranque rápido, una generación mínima de burbujas y un rendimiento constante. La configuración patentada del filtro en forma de media luna garantiza una baja caída de presión.
- Optimizado para una humectación completa y total
- Bajo volumen de retención
- Ventilación rápida
- Excelente compatibilidad
- Baja presión diferencial
- Extraíbles bajos
- Fabricado en sala blanca
- Junta tórica para facilitar el cambio del filtro
- Diseñado para adaptarse a la mayoría de los sistemas de dispensación de fotorresistencia más antiguos
La tendencia hacia anchuras de línea más estrechas en la fabricación de circuitos integrados ha supuesto una carga cada vez mayor para el control de la contaminación en todos los aspectos de la fabricación de semiconductores.
La filtración de fotoresinas en el punto de uso (POU) se ha utilizado para controlar la contaminación por partículas en la superficie de la oblea durante las operaciones de recubrimiento.
La necesidad de una filtración más estricta ha llevado a la introducción de membranas de 0,05 /spl mu/m, además de las tradicionales de 0,10 /spl mu/m, para controlar la contaminación durante la dispensación de fotorresistencia.
Con la introducción de membranas más ajustadas para su uso en la filtración de fotorresistencias, el usuario final puede tener la preocupación de que la fotorresistencia pueda sufrir algunos efectos nocivos al someterse a la filtración.
Este estudio se centra en el uso de filtros Pall Falcon(R) de 0,05 /spl mu/m y 0,10 /spl mu/m en la dispensación de fotorresistencia Microposit S1813 para la reducción de defectos superficiales en la superficie de la oblea.
Los resultados de la cromatografía de permeación en gel (GPC) en fotorresistencias filtradas y sin filtrar no mostraron ningún efecto sobre el peso molecular de los componentes fotosensibles.
Los resultados de viscosidad y espesor del revestimiento indicaron que no había pérdida de sólidos que pudiera afectar a la viscosidad y, a su vez, al espesor del revestimiento en la superficie de la oblea.
La exposición de la línea G demostró la retención de la fotovelocidad, lo que indica que no hay efectos dañinos en la resina ni en los componentes fotosensibles.
Las aplicaciones de la filtración a la dispensación de fotorresistencia se demuestran como un paso positivo para reducir la contaminación en la superficie de la oblea sin efectos nocivos en el rendimiento de la fotorresistencia.
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